真空鍍膜廠家生產(chǎn)設(shè)備的配置因工藝流程而異，但一般需要以下幾類設(shè)備。

1. 真空質(zhì)量檢測(cè)儀：用于檢測(cè)真空質(zhì)量，如真空度、氣體成分等。檢測(cè)結(jié)果可以提供給其他設(shè)備參考，以確保設(shè)備工作順暢。

2. 真空泵：用于排出工藝室內(nèi)氣體，保持工藝室真空度。根據(jù)不同的需求，可以選擇多級(jí)旁通油封泵、羅茨泵、干式泵以及分子泵等。

3. 濺射鍍膜設(shè)備：主要由光源、電源、反應(yīng)室以及底座、夾具等部分構(gòu)成。通過(guò)電子束或電弧等方式將金屬或半導(dǎo)體材料熔化并濺射到基底上，質(zhì)量均勻且造價(jià)較低。

4. 電子束鍍膜設(shè)備：其主要組成部分為反應(yīng)室、電子束裝置、工業(yè)自動(dòng)化控制系統(tǒng)等。通過(guò)電子束使材料加熱到蒸發(fā)溫度，并把蒸汽噴灑在基底上，成膜速度快，精度高，適用于光學(xué)功能薄膜和高階電子元器件等。

5. 等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積設(shè)備：也稱作PECVD設(shè)備，是通過(guò)離子化的氣體生成等離子體，并通過(guò)化學(xué)反應(yīng)生成膜層。適用于制備功能性涂層，如硅氫化膜、氮化銅等。

6. 磁控濺射設(shè)備：真空鍍膜廠家直銷批發(fā)的產(chǎn)品使用恒磁或變磁場(chǎng)將磁性材料熔化，并噴射到基底上。該設(shè)備制備的膜層厚度均勻，結(jié)構(gòu)致密，適用于制備光學(xué)鏡片以及磁盤等。

7. 光譜儀：用于測(cè)試薄膜的光學(xué)性質(zhì)、厚度和材料成分。通過(guò)反射率、吸收率、折射率等精細(xì)定量分析薄膜狀況，供質(zhì)量控制人員進(jìn)行質(zhì)量管理。

8. 清洗設(shè)備：用于清洗基底和膜層，去除表面雜質(zhì)。常用的清洗方法包括化學(xué)氧化、離子水洗等。

9. 烘烤爐：用于烘干基底及膜層。通過(guò)加熱基底、膜層達(dá)到特定溫度，去除水分和有機(jī)物質(zhì)，增強(qiáng)膜層附著力和質(zhì)量。

10. 處理氣體供應(yīng)器：七彩金屬真空鍍膜廠家常用的處理氣體有氮?dú)?、氧氣、氬氣、氦氣、乙炔、氨氣等，常用于清洗、備料、反?yīng)原料、抽氣、保護(hù)等。

總之，真空鍍膜生產(chǎn)設(shè)備種類繁多，每一種設(shè)備的特點(diǎn)和應(yīng)用場(chǎng)景各異，選擇合適的設(shè)備能夠提高生產(chǎn)效率、質(zhì)量和降低成本。